6 Zoll 150 mm Siliziumkarbid SiC Waferen vum Typ 4H-N fir MOS oder SBD Produktiounsfuerschung an Dummy-Qualitéit

Kuerz Beschreiwung:

Dat 6-Zoll Siliziumkarbid-Eenkristallsubstrat ass e performant Material mat exzellente physikaleschen a chemeschen Eegeschaften. Hergestallt aus héichreinem Siliziumkarbid-Eenkristallmaterial weist et eng iwwerleeën thermesch Leetfäegkeet, mechanesch Stabilitéit a Resistenz géint héich Temperaturen op. Dëst Substrat, dat mat präzise Fabrikatiounsprozesser a qualitativ héichwäertege Materialien hiergestallt gouf, ass zum bevorzugte Material fir d'Fabrikatioun vun héicheffizienten elektroneschen Apparater a verschiddene Beräicher ginn.


Produktdetailer

Produkt Tags

Applikatiounsfelder

De 6-Zoll Siliziumcarbid-Eenkristallsubstrat spillt eng entscheedend Roll a ville Branchen. Éischtens gëtt et wäit verbreet an der Hallefleederindustrie fir d'Fabrikatioun vun elektroneschen Apparater mat héijer Leeschtung wéi Leeschtungstransistoren, integréiert Schaltungen a Leeschtungsmoduler benotzt. Seng héich Wärmeleitfäegkeet a seng héich Temperaturbeständegkeet erméiglechen eng besser Hëtztofleedung, wat zu enger verbesserter Effizienz a Zouverlässegkeet féiert. Zweetens si Siliziumcarbid-Wafers essentiell a Fuerschungsberäicher fir d'Entwécklung vun neie Materialien an Apparater. Zousätzlech fënnt de Siliziumcarbid-Wafer extensiv Uwendungen am Beräich vun der Optoelektronik, dorënner d'Fabrikatioun vun LEDs a Laserdioden.

Produktspezifikatiounen

Dat 6-Zoll Siliziumkarbid-Eenkristallsubstrat huet en Duerchmiesser vu 6 Zoll (ongeféier 152,4 mm). D'Uewerflächenrauheet ass Ra < 0,5 nm, an d'Déckt ass 600 ± 25 μm. De Substrat kann entweder mat N-Typ oder P-Typ Konduktivitéit personaliséiert ginn, jee no de Bedierfnesser vum Client. Ausserdeem weist et eng aussergewéinlech mechanesch Stabilitéit op a kann Drock a Vibratioun standhalen.

Duerchmiesser 150 ± 2,0 mm (6 Zoll)

Déckt

350 μm ± 25 μm

Orientéierung

Op der Achs: <0001> ±0,5°

Off-Achs: 4,0° Richtung 1120 ± 0,5°

Polytyp 4H

Widderstand (Ω·cm)

4H-N

0,015~0,028 Ω·cm/0,015~0,025ohm·cm

4/6H-SI

>1E5

Primär flaach Orientéierung

{10-10}±5,0°

Primär flaach Längt (mm)

47,5 mm±2,5 mm

Rand

Fase

TTV/Béi/Kehrung (um)

≤15 /≤40 /≤60

AFM Front (Si-Face)

Polnesch Ra≤1 nm

CMP Ra≤0,5 nm

LTV

≤3μm (10mm * 10mm)

≤5μm (10mm * 10mm)

≤10μm (10mm * 10mm)

TTV

≤5μm

≤10μm

≤15μm

Orangenschuel/Kären/Rëss/Kontaminatioun/Flecken/Striatiounen

Keen Keen Keen

Andréck

Keen Keen Keen

Dat 6-Zoll Siliziumkarbid-Eenkristallsubstrat ass en héichperformant Material, dat wäit verbreet an der Hallefleeder-, Fuerschungs- an Optoelektronikindustrie benotzt gëtt. Et bitt exzellent Wärmeleitfäegkeet, mechanesch Stabilitéit a Resistenz géint héich Temperaturen, wat et gëeegent mécht fir d'Fabrikatioun vun elektroneschen Apparater mat héijer Leeschtung an d'Fuerschung vun neie Materialien. Mir bidden verschidde Spezifikatiounen an Optiounen fir d'Ufuerderunge vun de verschiddene Clienten gerecht ze ginn.Kontaktéiert eis fir méi Detailer iwwer Siliziumkarbidwaferen!

Detailéiert Diagramm

WechatIMG569_ (1)
WechatIMG569_ (2)

  • Virdrun:
  • Weider:

  • Schreift Är Noriicht hei a schéckt se eis