Gemustert Saphir-Substrat PSS 2 Zoll 4 Zoll 6 Zoll ICP Drécheätzung kann fir LED-Chips benotzt ginn

Kuerz Beschreiwung:

E gemustert Saphirsubstrat (PSS) ass e Substrat, op deem Mikro- a Nanostrukture duerch Lithographie an Ätztechnike geformt ginn. Et gëtt haaptsächlech an der LED-Produktioun (Liichtemittéierend Diode) benotzt, fir d'Effizienz vun der Liichtextraktioun duerch Uewerflächenmusterdesign ze verbesseren an doduerch d'Hellegkeet an d'Leeschtung vun LED ze verbesseren.


Produktdetailer

Produkt Tags

Kärcharakteristik

1. Materialeigenschaften: De Substratmaterial ass e Singlekristall-Saphir (Al₂O₃), mat héijer Häert, héijer Hëtztbeständegkeet a chemescher Stabilitéit.

2. Uewerflächenstruktur: D'Uewerfläch gëtt duerch Photolithographie an Ätzung a periodesch Mikro-Nanostrukturen, wéi Kegelen, Pyramiden oder hexagonal Arrays, geformt.

3. Optesch Leeschtung: Duerch den Uewerflächenmusterdesign gëtt déi total Reflexioun vum Liicht op der Grenzfläch reduzéiert, an d'Liichtextraktiounseffizienz gëtt verbessert.

4. Thermesch Leeschtung: Saphirsubstrat huet eng exzellent thermesch Leetfäegkeet, gëeegent fir héichleistungs LED Uwendungen.

5. Gréisstspezifikatiounen: Déi üblech Gréissten sinn 2 Zoll (50,8 mm), 4 Zoll (100 mm) an 6 Zoll (150 mm).

Haapt Uwendungsberäicher

1. LED-Produktioun:
Verbessert Liichtextraktiounseffizienz: PSS reduzéiert de Liichtverloscht duerch Musterdesign, wouduerch d'Hellegkeet an d'Liichteffizienz vun den LEDen däitlech verbessert ginn.

Verbessert epitaktesch Wuessqualitéit: Déi gemustert Struktur bitt eng besser Wuessbasis fir GaN-epitaxial Schichten a verbessert d'LED-Leeschtung.

2. Laserdiod (LD):
Héichleistungslaser: Déi héich thermesch Konduktivitéit a Stabilitéit vu PSS si gëeegent fir Héichleistungslaserdioden, wouduerch d'Wärmeofleedungsleistung an d'Zouverlässegkeet verbessert ginn.

Niddrege Schwellstroum: Optiméiert den epitaktischen Wuesstum, reduzéiert de Schwellstroum vun der Laserdiod a verbessert d'Effizienz.

3. Fotodetektor:
Héich Empfindlechkeet: Déi héich Liichttransmissioun an déi niddreg Defektdicht vum PSS verbesseren d'Empfindlechkeet an d'Reaktiounsgeschwindegkeet vum Photodetektor.

Breet spektral Äntwert: gëeegent fir photoelektresch Detektioun am ultraviolett bis zum visuelle Beräich.

4. Leeschtungselektronik:
Héichspannungswidderstand: Déi héich Isolatioun an thermesch Stabilitéit vu Saphir si gëeegent fir Héichspannungsapparater.

Effizient Wärmeofleedung: Héich Wärmeleitfäegkeet verbessert d'Wärmeofleedungsleistung vu Stroumgeräter a verlängert d'Liewensdauer.

5. RF-Geräter:
Héichfrequenzleistung: De niddrege dielektresche Verloscht an déi héich thermesch Stabilitéit vu PSS si gëeegent fir Héichfrequenz-HF-Geräter.

Geräuscharm: Héich Flaachheet a geréng Defektdicht reduzéieren den Apparatgeräusch a verbesseren d'Signalqualitéit.

6. Biosensoren:
Detektioun mat héijer Empfindlechkeet: Déi héich Liichttransmissioun a chemesch Stabilitéit vu PSS si gëeegent fir Biosensoren mat héijer Empfindlechkeet.

Biokompatibilitéit: D'Biokompatibilitéit vu Saphir mécht en gëeegent fir medizinesch an Biodetektiounsapplikatiounen.
Gemustert Saphirsubstrat (PSS) mat GaN epitaktischem Material:

E gemustert Saphirsubstrat (PSS) ass en ideales Substrat fir GaN (Galliumnitrid) epitaktesch Wuesstem. D'Gitterkonstant vum Saphir ass no bei der GaN, wat Gitterfehler a Mängel am epitaktischen Wuesstem reduzéiere kann. D'Mikro-Nanostruktur vun der PSS-Uewerfläch verbessert net nëmmen d'Liichtextraktiounseffizienz, mä och d'Kristallqualitéit vun der GaN-Epitaxialschicht, wouduerch d'Leeschtung an d'Zouverlässegkeet vun der LED verbessert ginn.

Technesch Parameteren

Artikel Gemustert Saphir-Substrat (2~6 Zoll)
Duerchmiesser 50,8 ± 0,1 mm 100,0 ± 0,2 mm 150,0 ± 0,3 mm
Déckt 430 ± 25μm 650 ± 25 μm 1000 ± 25 μm
Uewerflächenorientéierung C-Fläch (0001) Auswénkel zur M-Achs (10-10) 0,2 ± 0,1°
C-Fläch (0001) aus dem Wénkel zur A-Achs (11-20) 0 ± 0,1°
Primär flaach Orientéierung A-Fläch (11-20) ± 1,0°
Primär flaach Längt 16,0 ± 1,0 mm 30,0 ± 1,0 mm 47,5 ± 2,0 mm
R-Fliger 9 Auer
Uewerflächenfinish vir Gemustert
Réckflächefinish SSP: Feingeschliffen, Ra=0,8-1,2µm; DSP: Epi-poliert, Ra<0,3nm
Lasermarkéierung Récksäit
TTV ≤8μm ≤10μm ≤20μm
BOU ≤10μm ≤15μm ≤25μm
WARP ≤12μm ≤20μm ≤30μm
Randausgrenzung ≤2 mm
Muster Spezifikatioun Formstruktur Kuppel, Kegel, Pyramid
Musterhéicht 1,6~1,8μm
Musterduerchmiesser 2,75~2,85μm
Musterraum 0,1~0,3μm

 XKH spezialiséiert sech op d'Liwwerung vun héichqualitativen, personaliséiert gemusterte Saphirsubstrater (PSS) mat techneschem Support an After-Sales-Service, fir Clienten ze hëllefen, effizient Innovatiounen am Beräich vun LED, Display an Optoelektronik z'erreechen.

1. Héichqualitativ PSS-Liwwerung: Gemustert Saphir-Substrater a verschiddene Gréissten (2", 4", 6") fir den Ufuerderunge vun LED-, Display- an optoelektroneschen Apparater gerecht ze ginn.

2. Personnaliséierten Design: D'Mikro-Nanostruktur vun der Uewerfläch (wéi Kegel, Pyramid oder hexagonal Array) no de Bedierfnesser vum Client personaliséieren, fir d'Effizienz vun der Liichtentwécklung ze optimiséieren.

3. Techneschen Support: PSS Applikatiounsdesign, Prozessoptimiséierung a technesch Berodung ubidden, fir de Clienten ze hëllefen, d'Produktleistung ze verbesseren.

4. Ënnerstëtzung fir epitaktesch Wuesstem: PSS, deen mat GaN epitakteschem Material kombinéiert ass, gëtt geliwwert fir e qualitativ héichwäertegt epitaktesch Schichtwuesstem ze garantéieren.

5. Tester a Zertifizéierung: Liwwert e PSS-Qualitéitsinspektiounsbericht fir sécherzestellen, datt d'Produkter den Industriestandarden entspriechen.

Detailéiert Diagramm

Gemustert Saphir-Substrat (PSS) 4
Gemustert Saphir-Substrat (PSS) 5
Gemustert Saphir-Substrat (PSS) 6

  • Virdrun:
  • Weider:

  • Schreift Är Noriicht hei a schéckt se eis