SiC Substrat P an D Grad Dia50mm 4H-N 2inch
D'Haaptmerkmale vun 2inch SiC Mosfet Wafere sinn wéi follegt;.
Héich thermesch Konduktivitéit: Assuréiert effizient thermesch Gestioun, verbessert d'Zouverlässegkeet an d'Performance vum Apparat
Héich Elektronen Mobilitéit: Erméiglecht Héichgeschwindeg elektronesch Schalter, gëeegent fir Héichfrequenz Uwendungen
Chemesch Stabilitéit: Erhaalt d'Performance ënner extremen Konditiounen Apparat Liewensdauer
Kompatibilitéit: Kompatibel mat existéierender Hallefleitintegratioun a Masseproduktioun
2inch, 3inch, 4inch, 6inch, 8inch SiC Mosfet wafers gi wäit an de folgende Beräicher benotzt: Kraaftmoduler fir elektresch Gefierer, déi stabil an effizient Energiesystemer ubidden, Inverter Feind erneierbar Energiesystemer, Optimisatioun vun Energiemanagement an Konversiounseffizienz,
SiC Wafer an Epi-Layer Wafer fir Satelliten- a Raumfaartelektronik, déi zuverlässeg Héichfrequenzkommunikatioun garantéieren.
Optoelektronesch Uwendungen fir High-Performance Laser a LEDs, déi d'Ufuerderunge vun fortgeschratt Beliichtungs- a Displaytechnologien treffen.
Eis SiC Wafers SiC Substrater sinn déi ideal Wiel fir Kraaftelektronik a RF Apparater, besonnesch wou héich Zouverlässegkeet an aussergewéinlech Leeschtung erfuerderlech sinn. All Batch vu Wafere gëtt streng Tester gemaach fir sécherzestellen datt se den héchste Qualitéitsnormen entspriechen.
Eis 2inch, 3inch, 4inch, 6inch, 8inch 4H-N Typ D-Grad a P-grade SiC Wafere sinn déi perfekt Wiel fir High-Performance Semiconductor Uwendungen. Mat aussergewéinlecher Kristallqualitéit, strikter Qualitéitskontroll, Personnalisatiounsservicer, an eng breet Palette vun Uwendungen, kënne mir och Personnalisatioun no Äre Besoinen arrangéieren. Ufroe si wëllkomm!