Produkter
-
Aluminiumoxid Keramik Endeffektor / Gabelarm fir Wafer- a Substratbehandlung
-
Wafer-Orientéierungssystem fir Kristallorientéierungsmiessung
-
SiC Keramiktablett fir Waferträger mat Héichtemperaturbeständegkeet
-
SiC Keramik Gabelarm / Endeffektor – Fortgeschratt Präzisiounsbehandlung fir d'Hallefleiterproduktioun
-
Siliziumkarbid-Keramiktablett – Haltbar, héich performant Tablette fir thermesch a chemesch Uwendungen
-
Héichleistungs-Aluminiumoxid-Keramik-Endeffektor (Gabelarm) fir Halbleiter- a Cleanroom-Automatiséierung
-
Schmelz Quarzröhren personaliséierbar Gréissten fir industriell a Laborgebrauch
-
SiO₂ Quarzwafer Quarzwaferen SiO₂ MEMS Temperatur 2″ 3″ 4″ 6″ 8″ 12″
-
Wafer Eenzeltransportkëscht 1″2″3″4″6″
-
6 Zoll / 8 Zoll POD / FOSB Glasfaserverbindungsbox Liwwerbox Späicherbox RSP Fernserviceplattform FOUP Eenheetlech Pod mat Frontöffnung
-
PEEK-Isolator fir Hallefleiterausrüstung
-
UV/IR-Quarz-Duerchgangsplatten fir héich Temperaturchemikalien, personaliséiert geschnidden