Ni Substrat / Wafer Eenkristall Kubikstruktur a = 3.25A Dicht 8.91

Kuerz Beschreiwung:

Nickel (Ni) Substrater, besonnesch a Form vun Nickelwafers, ginn extensiv an der Materialwëssenschaft an der Elektronikfuerschung benotzt wéinst hire villsäitege Eegeschaften. Verfügbar an Dimensiounen vu 5x5x0,5 mm, 10x10x1 mm, an 20x20x0,5 mm, sinn dës Substrater laanscht Schlësselkristallographesch Ebenen wéi <100>, <110> an <111> orientéiert. Dës Orientéierunge si kritesch fir d'Dënnfilmablagerung, den epitaxiale Wuesstum an d'Uewerflächestudien ze beaflossen, well se präzis Gitter passend mat verschiddene Materialien erlaben. Nickel Substrate ginn allgemeng an Uwendungen benotzt mat Katalyse, magnetesche Materialien, a Superleitungen wéinst hirer exzellenter thermescher an elektrescher Konduktivitéit. Hir héich mechanesch Kraaft a Resistenz géint Korrosioun maachen se och gëeegent fir fortgeschratt Beschichtungstechniken, Sensorentwécklung an Nanoelektronik. D'Kombinatioun vun der kristallographescher Präzisioun, der Dimensiounsflexibilitéit an der héichqualitativer Néckelmaterial garantéiert datt dës Substrate optimal Leeschtung an experimentellen an industriellen Uwendungen ubidden. Mat hirer Fäegkeet fir eng breet Palette vun dënnen Filmer a Beschichtungen z'ënnerstëtzen, sinn Ni Substrate integral fir d'Entwécklung vun neie Materialien an Apparater iwwer verschidden High-Tech Felder.


Produit Detailer

Produit Tags

Spezifizéierung

D'kristallographesch Orientéierunge vun Ni-Substraten, wéi <100>, <110> an <111>, spillen eng entscheedend Roll bei der Bestëmmung vun der Uewerfläch an der Interaktiounseigenschaften vum Material. Dës Orientéierunge bidden Gitter passend Fäegkeeten mat verschiddene Dënnfilmmaterialien, ënnerstëtzen präzis Wuesstum vun epitaxiale Schichten. Zousätzlech mécht d'Korrosiounsbeständegkeet vum Nickel et haltbar an härten Ëmfeld, wat gutt ass fir Uwendungen an der Raumfaart, Marine a chemescher Veraarbechtung. Seng mechanesch Kraaft suergt weider datt Ni Substrater d'Rigoritéit vun der kierperlecher Veraarbechtung an der Experimentéiere kënne widderstoen ouni ze degradéieren, wat eng stabil Basis fir Dënnfilmablagerung a Beschichtungstechnologien ubitt. Dës Kombinatioun vun thermeschen, elektreschen a mechanesche Properties mécht Ni Substrate wesentlech fir fortgeschratt Fuerschung an der Nanotechnologie, Uewerflächewëssenschaft an Elektronik.
Charakteristiken vum Néckel kënnen héich Härtheet a Kraaft enthalen, déi sou schwéier wéi 48-55 HRC kënne sinn. Gutt Korrosiounsbeständegkeet, besonnesch fir Säure an Alkali an aner chemesch Medien hunn exzellent Korrosiounsbeständegkeet. Gutt elektresch Konduktivitéit a Magnetismus ass ee vun den Haaptkomponenten vun der Fabrikatioun vun elektromagnetesche Legierungen.
Nickel kann a ville Beräicher benotzt ginn, wéi zum Beispill als konduktivt Material fir elektronesch Komponenten an als Kontaktmaterial. Benotzt fir Batterien, Motoren, Transformatoren an aner elektromagnetesch Ausrüstung ze fabrizéieren. Benotzt an elektronesche Stecker, Transmissiounslinnen an aner elektresch Systemer. Als strukturell Material fir chemesch Ausrüstung, Container, Pipelines, asw. Et gëtt an pharmazeuteschen, petrochemeschen an anere Beräicher benotzt, wou d'Korrosiounsbeständegkeet vu Materialien strikt erfuerderlech ass.

Nickel (Ni) Substrater, duerch hir versatile physesch, chemesch a kristallographesch Eegeschaften, fanne vill Uwendungen iwwer eng Vielfalt vu wëssenschaftlechen an industrielle Felder. Drënner sinn e puer vun de Schlëssel Uwendungen vun Ni Substrate: Nickel Substrater ginn extensiv an der Oflagerung vun dënn Filmer an epitaxial Schichten benotzt. Déi spezifesch kristallographesch Orientéierunge vun Ni Substrate, wéi <100>, <110>, an <111>, bidden Gitter mat verschiddene Materialien, wat e präzisen a kontrolléierte Wuesstum vun dënnen Filmer erlaabt. Ni Substrate ginn dacks an der Entwécklung vu magnetesche Späichergeräter, Sensoren a Spintronesch Geräter benotzt, wou d'Kontroll vun Elektronenspinn Schlëssel ass fir d'Performance vum Apparat ze verbesseren. Nickel ass en exzellente Katalysator fir Waasserstoff Evolutiounsreaktiounen (HER) a Sauerstoff Evolutiounsreaktiounen (OER), déi kritesch sinn an der Waasserspaltung an der Brennstoffzelltechnologie. Ni Substrate ginn dacks als Ënnerstëtzungsmaterial fir katalytesch Beschichtungen an dësen Uwendungen benotzt, bäidroen zu effizienten Energiekonversiounsprozesser.
Mir kënne verschidde Spezifikatioune, Dicken a Forme vum Ni Single Kristallsubstrat no Cliente spezifesch Ufuerderunge personaliséieren.

Detailléiert Diagramm

1 (1)
1 (2)