LiTaO3 Wafer 2 Zoll-8 Zoll 10x10x0,5 mm 1sp 2sp fir 5G/6G Kommunikatioun

Kuerz Beschreiwung:

LiTaO3-Wafer (Lithiumtantalat-Wafer), e wichtegt Material an den Hallefleeder an der Optoelektronik vun der drëtter Generatioun, notzt seng héich Curie-Temperatur (610 °C), säi breede Transparenzberäich (0,4–5,0 μm), säi ieweschte piezoelektresche Koeffizient (d33 > 1.500 pC/N) a säi niddrege dielektresche Verloscht (tanδ < 2 %), fir 5G-Kommunikatioun, photonesch Integratioun a Quantebauelementer ze revolutionéieren. Mat Hëllef vun fortgeschrattene Fabrikatiounstechnologien wéi physikaleschem Dampftransport (PVT) a chemescher Dampfoflagerung (CVD) liwwert XKH X/Y/Z-geschnidden, 42 °Y-geschnidden a periodesch gepolte (PPLT) Waferen a Formater vun 2–8 Zoll, mat enger Uewerflächenrauheet (Ra) <0,5 nm an enger Mikropipe-Dicht <0,1 cm⁻². Eis Servicer ëmfaassen Fe-Dotierung, chemesch Reduktioun an Smart-Cut heterogen Integratioun, a behandelen héichperformant optesch Filteren, Infraroutdetekteren a Quante-Liichtquellen. Dëst Material dréit zu Duerchbréch an der Miniaturiséierung, dem Héichfrequentbetrieb an der thermescher Stabilitéit bäi, wouduerch d'Ersatzstatioun an den häusleche Beräicher a kriteschen Technologien beschleunegt gëtt.


  • :
  • Fonctiounen

    Technesch Parameteren

    Numm Optesch Qualitéit LiTaO3 Schalltischniveau LiTaO3
    Axial Z-Schnëtt + / - 0,2 ° 36° Y-Schnëtt / 42° Y-Schnëtt / X-Schnëtt

    (+ / - 0,2°)

    Duerchmiesser 76,2mm + / - 0,3mm/

    100±0,2mm

    76,2 mm + /- 0,3 mm

    100mm + /-0.3mm 0r 150±0.5mm

    Datum-Ebene 22mm + / - 2mm 22mm + /-2mm

    32mm + /-2mm

    Déckt 500µm + /-5mm

    1000µm + /-5mm

    500µm + /-20mm

    350µm +/-20mm

    TTV ≤ 10µm ≤ 10µm
    Curie-Temperatur 605 °C + / - 0,7 °C (DTA-Method) 605 °C + / -3 °C (DTA-Method
    Uewerflächenqualitéit Duebelsäiteg Polieren Duebelsäiteg Polieren
    Ofgeschrägte Kanten Kantenabrundung Kantenabrundung

     

    Schlësselcharakteristiken

    1. Elektresch an optesch Leeschtung
    · Elektrooptesche Koeffizient: r33 erreecht 30 pm/V (X-Cut), 1,5x méi héich wéi LiNbO3, wat eng ultrabreetbandeg elektrooptesch Modulatioun (>40 GHz Bandbreet) erméiglecht.
    · Breet spektral Äntwert: Transmissiounsberäich 0,4–5,0 μm (8 mm Déckt), mat enger UV-Absorptiounskant vun nëmmen 280 nm, ideal fir UV-Laseren a Quantepunkt-Geräter.
    · Niddrege pyroelektresche Koeffizient: dP/dT = 3,5×10⁻⁴ C/(m²·K), wat d'Stabilitéit an Héichtemperatur-Infraroutsensoren garantéiert.

    2. Thermesch a mechanesch Eegeschaften
    · Héich thermesch Konduktivitéit: 4,6 W/m·K (X-Cut), véierfach sou vill wéi Quarz, hält en thermesche Zyklësch vun -200–500°C stand.
    · Niddrege thermeschen Ausdehnungskoeffizient: CTE = 4,1 × 10⁻⁶/K (25–1000 °C), kompatibel mat Siliziumverpackungen fir d'thermesch Belaaschtung ze minimiséieren.
    3. Defektkontroll a Veraarbechtungspräzisioun
    · Mikropäifdicht: <0,1 cm⁻² (8-Zoll-Waferen), Dislokatiounsdicht <500 cm⁻² (verifizéiert duerch KOH-Ätzen).
    · Uewerflächenqualitéit: CMP-poléiert op Ra <0,5 nm, entsprécht den Ufuerderunge fir d'Flaachheet vum EUV-Lithographiegrad.

    Schlësselapplikatiounen

    Domain

    Applikatiounsszenarien

    Technesch Virdeeler

    Optesch Kommunikatioun

    100G/400G DWDM-Laseren, Silizium-Photonikhybridmoduler

    Déi breet spektral Transmissioun an de niddrege Wellenleiterverloscht (α <0,1 dB/cm) vu LiTaO3-Wafer erméiglechen eng Expansioun vum C-Band.

    5G/6G Kommunikatioun

    SAW-Filter (1,8–3,5 GHz), BAW-SMR-Filter

    42°Y-geschniddene Wafer erreechen e Kt² vun >15%, wat zu engem niddregen Insertion-Verloscht (<1,5 dB) an engem héije Roll-off (>30 dB) féiert.

    Quantentechnologien

    Eenzelphotondetektoren, parametresch Down-Conversion-Quellen

    En héije netlineare Koeffizient (χ(2)=40 pm/V) an eng niddreg Däischterzuelquote (<100 Zuelen/s) verbesseren d'Quantequalitéit.

    Industriell Sensorik

    Héichtemperaturdrocksensoren, Stroumtransformatoren

    Déi piezoelektresch Äntwert (g33 >20 mV/m) an d'Héichtemperaturtoleranz (>400°C) vun de LiTaO3-Wafer si gëeegent fir extrem Ëmfeldbedingungen.

     

    XKH Servicer

    1. Benotzerdefinéiert Waferfabrikatioun

    · Gréisst a Schnëtt: 2–8-Zoll-Waferen mat X/Y/Z-Schnëtt, 42°Y-Schnëtt a personaliséierte Wénkelschnëtt (±0,01° Toleranz).

    · Dotierungskontroll: Fe, Mg Dotierung iwwer d'Czochralski-Method (Konzentratiounsberäich 10¹⁶–10¹⁹ cm⁻³) fir elektrooptesch Koeffizienten an thermesch Stabilitéit ze optimiséieren.

    2. Fortgeschratt Prozesstechnologien
    ​​
    · Periodesch Polung (PPLT): Smart-Cut Technologie fir LTOI-Waferen, déi eng Domänperiodpräzisioun vun ±10 nm an eng quasi-phase-matched (QPM) Frequenzkonversioun erreecht.

    · Heterogen Integratioun: Si-baséiert LiTaO3-Kompositwaferen (POI) mat Décktkontroll (300–600 nm) an enger Wärmeleitfäegkeet vu bis zu 8,78 W/m·K fir Héichfrequenz-SAW-Filter.

    3. Qualitéitsmanagementsystemer
    ​​
    · End-to-End Tester: Raman-Spektroskopie (Polytypverifizéierung), XRD (Kristallinitéit), AFM (Uewerflächenmorphologie) an optesch Uniformitéitstester (Δn <5×10⁻⁵).

    4. Global Ënnerstëtzung vun der Liwwerketten
    ​​
    · Produktiounskapazitéit: Méintlech Produktioun >5.000 Waferen (8-Zoll: 70%), mat Noutliwwerung bannent 48 Stonnen.

    · Logistiknetz: Ofdeckung an Europa, Nordamerika an Asien-Pazifik iwwer Loft-/Séifracht mat temperaturkontrolléierter Verpackung.

    Laserholographesch Anti-Fälschungsausrüstung 2
    Laserholographesch Anti-Fälschungsausrüstung 3
    Laserholographesch Anti-Fälschungsausrüstung 5

  • Virdrun:
  • Weider:

  • Schreift Är Noriicht hei a schéckt se eis