Héichreinheetsgeschmolzene Quarzwafer fir Hallefleiter-, Photonik- a Optikapplikatiounen 2″4″6″8″12″

Kuerz Beschreiwung:

Schmelz Quarz—och bekannt alsSchmelzte Kieselerde—ass déi net-kristallin (amorph) Form vu Siliziumdioxid (SiO₂). Am Géigesaz zu Borosilikat oder anerem industrielle Glas enthält geschmolzene Quarz keng Dotiermëttel oder Zousätz a bitt eng chemesch reng Zesummesetzung vu SiO₂. Et ass bekannt fir seng aussergewéinlech optesch Transmissioun iwwer souwuel ultraviolett (UV) wéi och Infrarout (IR) Spektrum, wat traditionell Glasmaterialien iwwertrëfft.

Schéckt eis eng E-Mail

Fonctiounen

Detailéiert Diagramm

Schmelzte Kieselerde a optesch Quarzglaswaferen-2

geschmolzene_Quarz_Wafer_4_Zoll_geschmolzene_Kiseldioxid_Wafer_

Iwwersiicht iwwer Quarzglas

Quarz-Wafers bilden d'Grondlag vun onzählege modernen Apparater, déi déi haiteg digital Welt dreiwen. Vun der Navigatioun an Ärem Smartphone bis zum Grondlag vun 5G-Basisstatiounen liwwert Quarz roueg d'Stabilitéit, d'Reinheet an d'Prezisioun, déi an der performanter Elektronik a Photonik erfuerderlech sinn. Egal ob et flexibel Schaltungen ënnerstëtzt, MEMS-Sensoren erméiglecht oder d'Basis fir Quantecomputer bildt, déi eenzegaarteg Charakteristike vu Quarz maachen et onentbierlech an alle Branchen.

„Fused Silica“ oder „Fused Quartz“, dat ass déi amorph Phas vum Quarz (SiO2). Am Géigesaz zu Borsilikatglas huet geschmolzene Siliziumdioxid keng Zousätz; dofir existéiert et a senger reiner Form, SiO2. Schmolzene Siliziumdioxid huet eng méi héich Transmissioun am Infrarout- an Ultraviolettspektrum am Verglach mat normalem Glas. Schmolzene Siliziumdioxid gëtt duerch Schmëlzen an Nei-Verfestigung vun ultrareinem SiO2 produzéiert. Synthetesch geschmolzene Siliziumdioxid dogéint gëtt aus siliziumräiche chemesche Virleefer wéi SiCl4 hiergestallt, déi vergast an dann an enger H2 + O2 Atmosphär oxidéiert ginn. De SiO2-Stëbs, deen an dësem Fall entsteet, gëtt mat Siliziumdioxid op engem Substrat geschmolzen. Déi geschmolzene Siliziumdioxid-Blöck ginn a Wafer geschnidden, duerno ginn d'Wafers schliisslech poléiert.

Schmelzte Kieselerde a optesch Quarzglaswaferen

Schlësselmerkmale a Virdeeler vu Quarzglaswafer

Ultrahéich Rengheet (≥99,99% SiO2)
Ideal fir ultra-propper Hallefleiter- a Photonikprozesser, wou Materialkontaminatioun miniméiert muss ginn.
Breet thermesch Betribsberäich
Erhält d'strukturell Integritéit vu kryogenen Temperaturen bis zu iwwer 1100 °C ouni Verzerrung oder Degradatioun.
Excellent UV- an IR-Transmissioun
Liwwert exzellent optesch Kloerheet vum déiwen Ultraviolett (DUV) bis zum noen Infrarout (NIR), wat präzis optesch Uwendungen ënnerstëtzt.
Niddreg thermesch Expansiounskoeffizient
Verbessert d'dimensional Stabilitéit bei Temperaturschwankungen, reduzéiert Stress a verbessert d'Prozesszouverlässegkeet.
Iwwerleeën chemesch Resistenz
Inert géintiwwer de meeschte Säuren, Alkalien a Léisungsmëttel – dofir gutt geegent fir chemesch aggressiv Ëmfeld.
Flexibilitéit vun der Uewerflächenfinish
Verfügbar mat ultra-glatten, einfach- oder duebelsäitege poléierten Uewerflächen, kompatibel mat Photonik- an MEMS-Ufuerderungen.

Fabrikatiounsprozess vu Quarzglaswafer

Schmelz Quarzwafer ginn iwwer eng Serie vu kontrolléierten a präzise Schrëtt produzéiert:

Auswiel vu Réistoffer
Auswiel vu Quelle aus héichreinem Naturquarz oder syntheteschem SiO₂.
Schmelzen a Fusioun
Quarz gëtt bei ~2000°C an elektreschen Uewen ënner enger kontrolléierter Atmosphär geschmolz, fir Inklusiounen a Blasen ze eliminéieren.
Blockformung
De geschmollte Siliziumdioxid gëtt a fest Blöcke oder Barren ofgekillt.
Wafer schneiden
Präzisiouns-Diamant- oder Drotsäge gi benotzt fir d'Barren zu Wafer-Réckstänn ze schneiden.
Läppen & Poléieren
Béid Uewerfläche sinn flaach gemaach a poléiert, fir exakt optesch, Déckt- a Rauheetsspezifizéierungen ze erfëllen.
Botzen & Inspektioun
D'Wafere ginn a Reinigungsraim vun der ISO-Klass 100/1000 gebotzt an enger rigoréiser Inspektioun op Mängel an Dimensiounskonformitéit ënnerworf.

Eegeschafte vu Quarzglaswafer

Spezifikatioun	Eenheet	4"	6"	8"	10"	12"
Duerchmiesser / Gréisst (oder Quadrat)	mm	100	150	200	250	300
Toleranz (±)	mm	0,2	0,2	0,2	0,2	0,2
Déckt	mm	0,10 oder méi	0,30 oder méi	0,40 oder méi	0,50 oder méi	0,50 oder méi
Primär Referenzfläch	mm	32,5	57,5	Hallef-Notch	Hallef-Notch	Hallef-Notch
LTV (5mm×5mm)	μm	< 0,5	< 0,5	< 0,5	< 0,5	< 0,5
TTV	μm	< 2	< 3	< 3	< 5	< 5
Béi	μm	±20	±30	±40	±40	±40
Ketten	μm	≤ 30	≤ 40	≤ 50	≤ 50	≤ 50
PLTV (5mm×5mm) < 0.4μm	%	≥95%	≥95%	≥95%	≥95%	≥95%
Kantenabrundung	mm	Entsprécht dem SEMI M1.2 Standard / kuckt IEC62276
Uewerflächentyp		Eensäiteg poléiert / Duebelsäiteg poléiert
Poléiert Säit Ra	nm	≤1	≤1	≤1	≤1	≤1
Critèren op der Récksäit	μm	allgemeng 0,2-0,7 oder personaliséiert

Quarz vs. aner transparent Materialien

Immobilie	Quarzglas	Borosilikatglas	Saphir	Standard Glas
Maximal Betribstemperatur	~1100°C	~500°C	~2000°C	~200°C
UV-Transmissioun	Excellent (JGS1)	Aarm	Gutt	Ganz schlecht
Chemesch Resistenz	Excellent	Mëttelméisseg	Excellent	Aarm
Rengheet	Extrem héich	Niddreg bis mëttel	Héich	Niddreg
Thermesch Expansioun	Ganz niddereg	Mëttelméisseg	Niddreg	Héich
Käschten	Mëttel bis héich	Niddreg	Héich	Ganz niddereg

FAQ vu Quarzglaswafer

Q1: Wat ass den Ënnerscheed tëscht geschmolzenem Quarz a geschmolzenem Siliziumdioxid?
Obwuel béid amorph Forme vu SiO₂ sinn, staamt geschmolzene Quarz typescherweis aus natierleche Quarzquellen, während geschmolzene Siliziumdioxid synthetesch produzéiert gëtt. Funktionell bidden se ähnlech Leeschtung, awer geschmolzene Siliziumdioxid kann eng liicht méi héich Rengheet an Homogenitéit hunn.

Q2: Kënne geschmolzene Quarzwaferen an Héichvakuumumgebungen benotzt ginn?
Jo. Wéinst hirer gerénger Ausgasungseigenschaften an hirem héije Wärmewidderstand si geschmolzene Quarzwafer exzellent fir Vakuumsystemer an Uwendungen an der Loftfaart.

Q3: Sinn dës Wafere fir Déif-UV-Laserapplikatioune gëeegent?
Absolut. Schmelz Quarz huet eng héich Transmittanz bis op ~185 nm, wat en ideal fir DUV-Optik, Lithographiemasken an Excimerlasersystemer mécht.

Q4: Ënnerstëtzt Dir personaliséiert Waferfabrikatioun?
Jo. Mir bidden eng komplett Personnalisatioun, dorënner Duerchmiesser, Déckt, Uewerflächenqualitéit, Flaachheeten/Kerben a Lasermusterung, baséiert op Äre spezifeschen Ufuerderungen.

Iwwer eis

XKH spezialiséiert sech op High-Tech-Entwécklung, Produktioun a Verkaf vu speziellem optesche Glas a neie Kristallmaterialien. Eis Produkter si fir optesch Elektronik, Konsumentelektronik a fir d'Militär geduecht. Mir bidden optesch Komponenten fir Saphir, Lënsenofdeckungen fir Handyen, Keramik, LT, Siliziumcarbid SIC, Quarz a Hallefleederkristallwaferen. Mat qualifizéierter Expertise a moderner Ausrüstung exceléiere mir an der Veraarbechtung vu Produkter ouni Standard, mat dem Zil, e féierend High-Tech-Entreprise fir optoelektronesch Materialien ze sinn.

Saphir Wafer Blank Héichreinheets Rohsaphir Substrat fir d'Veraarbechtung 5

Virdrun: Saphir Wafer Blank Héichreinheets Rohsaphir Substrat fir d'Veraarbechtung

Weider: BF33 Glaswafer Fortgeschratt Borosilikat-Substrat 2″4″6″8″12″