EFG Saphirröhrchenelementfräi Galerkin-Method

EFG Saphirröhrchenelement Gratis Galerkin-Method Ausgewielt Bild

Kuerz Beschreiwung:

D'EFG Saphirréier, hiergestallt mat der Edge-Defined Film-Fed Growth (EFG) Technik, ass e Produkt aus engem Kristall aus Aluminiumoxid (Al₂O₃), dat fir seng aussergewéinlech Haltbarkeet, Rengheet an optesch Leeschtung bekannt ass. D'EFG Method erlaabt et, Saphirréier direkt an der röhreger Geometrie ze wuessen, wouduerch glat Uewerflächen an eng konsequent Wanddicke ouni extensiv Noveraarbechtung entstinn. Dës Saphirréier weisen eng aussergewéinlech Stabilitéit an héijen Temperaturen, héijen Drock a korrosiven Ëmfeld op, wouduerch se an fortgeschrattenen industriellen a wëssenschaftlechen Uwendungen onverzichtbar sinn.

Schéckt eis eng E-Mail

Fonctiounen

Detailéiert Diagramm

Produkt Iwwersiicht

DenEFG Saphirröhrchen, hiergestallt vun derRanddefinéiert Film-gefiddert Wuesstem (EFG)Technik, ass e Produkt aus Eenkristall-Aluminiumoxid (Al₂O₃), dat fir seng aussergewéinlech Haltbarkeet, Rengheet an optesch Leeschtung bekannt ass. D'EFG-Method erlaabt et, Saphirréier ze sinndirekt an der röhrfërmeger Geometrie ugebaut, wat glat Uewerflächen an eng konsequent Wanddicke ouni extensiv Nobearbechtung produzéiert. Dës Saphirréier weisen aussergewéinlech Stabilitéit anHéichtemperatur-, Héichdrock- a korrosiv Ëmfeld, wat se onentbehrlech an fortgeschrattenen industriellen a wëssenschaftlechen Uwendungen mécht.

EFG Wuesstemstechnologie

Den EFG-Wuesstumsprozess benotzt eForm- oder Forminstrumentdéi déi baussenzeg an déi bannenzeg Grenze vum Kristall definéiert, wéi geschmollte Saphirmaterial no uewe gezunn gëtt. Duerch präzis Kontroll vum kapillärgefidderte Schmelzfilm verfestigt sech de Saphirkristall zu engemnahtlosen Hohlzylinder.

Dës Method garantéiert, datt dat fäerdegt Produkt seng Qualitéit behältgewënschte Dimensiounen an kristallografesch Orientéierung, wouduerch de Besoin fir sekundär Bearbechtung miniméiert gëtt. Well de Saphir direkt a senger funktioneller Form geformt gëtt, bitt den EFG-Prozessexzellent Widderhuelbarkeet, héich Ausbezuelung a käschtegënschteg Skalierbarkeetfir Groussvolumenproduktioun.

Leeschtungseigenschaften

Breet optesch Transmissioun:Iwwerdréit Liicht vum ultraviolett (190 nm) bis zum Infraroutberäich (5 µm), ideal fir optesch, analytesch an sensoresch Uwendungen.
Héich strukturell Stäerkt:Déi monokristallin Struktur bitt eng iwwerleeën Resistenz géint mechanesch Belaaschtung, Wärmeschock a Verformung.
Aussergewéinlech thermesch Stabilitéit:Kann kontinuéierlech funktionéierenTemperaturen iwwer 1700°Couni Erweichung, Rëssbildung oder chemeschen Ofbau.
Chemesch a Plasmaresistenz:Inert géint staark Saieren, Alkali a reaktiv Gase, gëeegent fir Hallefleeder- a Laborumfeld.
Qualitéit vun der glatter Uewerfläch:Déi gewuess EFG-Uewerfläch ass scho fein an gläichméisseg, wat eng optesch Poléierung oder Beschichtung erlaabt, wann néideg.
Laang Liewensdauer a wéineg Ënnerhalt:Dank der Verschleißbeständegkeet vu Saphir bidden EFG-Réier eng laang Liewensdauer, och bei extremer Benotzung.

Uwendungen

EFG Saphirréier ginn do benotzt, wou Transparenz, Stäerkt a Stabilitéit entscheedend sinn:

Hallefleiterausrüstung:Benotzt als Schutzhülsen, Gasinjektiounsréier an Thermoelement-Mäntel.
Optoelektronik & Photonik:Laserréier, optesch Sensoren a Spektroskopie-Proufzellen.
Industriell Veraarbechtung:Kucktfënsteren, Plasma-Schutzofdeckungen an Héichtemperaturreaktoren.
Medizinesch & Analytesch Beräicher:Duerchflusskanäl, Fluidsystemer a Präzisiounsdiagnoseinstrumenter.
Energie- & Raumfaartsystemer:Héichdrockgehäuse, Verbrennungsinspektiounsöffnungen a Komponenten fir d'thermesch Abschirmung.

Typesch Eegeschaften

Parameter	Spezifikatioun
Materialzesummesetzung	Eenkristallin Al₂O₃ (99,99% Rengheet)
Wuesstemsmethod	EFG (Edge-Defined Film-Fed Growth)
Duerchmiesserberäich	2 mm – 100 mm
Wanddicke	0,3 mm – 5 mm
Maximal Längt	Bis zu 1200 mm
Orientéierung	a-Achs, c-Achs oder r-Achs
Optesch Transmissioun	190 nm – 5000 nm
Betribstemperatur	≤1800°C an der Loft / ≤2000°C am Vakuum
Uewerflächenfinish	As-grown, poléiert oder präzis geschliffen

FAQ

Q1: Firwat soll een d'EFG-Wuessmethod fir Saphirréier wielen?
A1: EFG erméiglecht eng bal komplett Formbildung, wouduerch deier Schleifen eliminéiert gëtt a méi laang, dënn Réier mat enger preziser Geometrie erreecht kënne ginn.

Q2: Sinn EFG-Réier resistent géint chemesch Korrosioun?
A2: Jo. Saphir ass chemesch inert a resistent géint déi meescht Säuren, Alkalien a Gaser op Halogenbasis, a schneit besser of wéi Quarz- a Aluminiumoxidkeramik.

Q3: Wéi eng Personnalisatiounsoptioune gëtt et?
A3: Äusseren Duerchmiesser, Wanddicke, Kristallorientéierung an Uewerflächenfinish kënnen all no spezifesche Client- oder Ausrüstungsufuerderunge personaliséiert ginn.

Q4: Wéi vergläichen sech EFG Saphirréier mat Glas- oder Quarzréier?
A4: Am Géigesaz zu Glas oder Quarz behalen Saphirréier Kloerheet a mechanesch Integritéit bei extremen Temperaturen a si resistent géint Kratzer an Erosioun, wat eng vill méi laang Liewensdauer bitt.

Iwwer eis

XKH spezialiséiert sech op High-Tech-Entwécklung, Produktioun a Verkaf vu speziellem optesche Glas a neie Kristallmaterialien. Eis Produkter si fir optesch Elektronik, Konsumentelektronik a fir d'Militär geduecht. Mir bidden optesch Komponenten fir Saphir, Lënsenofdeckungen fir Handyen, Keramik, LT, Siliziumcarbid SIC, Quarz a Hallefleederkristallwaferen. Mat qualifizéierter Expertise a moderner Ausrüstung exceléiere mir an der Veraarbechtung vu Produkter ouni Standard, mat dem Zil, e féierend High-Tech-Entreprise fir optoelektronesch Materialien ze sinn.