Dia50.8×0.1/0.17/0.2/0.25/0.3mmt Saphir Wafer Substrat Epi-ready DSP SSP

Kuerz Beschreiwung:

Den 2-Zoll Saphirwafer ass e qualitativ héichwäertegt zolidd Material mat héijer Hardness, héije Schmelzpunkt a gudder chemescher Stabilitéit.


Produit Detailer

Produit Tags

Drënner ass den 2 Zoll Saphir Wafer Beschreiwung, Naturvirdeeler, allgemeng Notzung a Standard Wafer Parameter Index iwwer 2 Zoll Saphir Wafers:

Produktbeschreiwung: 2 Zoll Saphirwafere ginn gemaach andeems d'Saphir Eenkristallmaterial an eng Siliziumwafer Form mat enger glaterer a flächeger Uewerfläch schneiden. Et ass e ganz stabilt an haltbar Material dat wäit an der Optik, Elektronik a Photonik benotzt gëtt.

Eegeschafte Virdeeler

Héich Hardness: Saphir huet e Mohs Hardness Niveau vun 9, zweet nëmmen Diamant, wat zu exzellente Kratzer a Verschleisbeständegkeet resultéiert.

Héich Schmelzpunkt: Saphir huet e Schmelzpunkt vun ongeféier 2040 ° C, wat et erlaabt an héich Temperaturen Ëmfeld mat exzellenter thermescher Stabilitéit ze schaffen.

Chemesch Stabilitéit: Saphir huet exzellent chemesch Stabilitéit an ass resistent géint Säuren, Alkalien a ätzend Gasen, sou datt et gëeegent ass fir Uwendungen a verschiddenen haarden Ëmfeld.

Allgemeng Benotzung

Optesch Uwendungen: Saphirwafer kënnen a Lasersystemer, optesch Fënstere, Lënsen, Infraroutoptik Geräter a méi benotzt ginn. Wéinst senger exzellenter Transparenz gëtt Saphir vill am optesche Feld benotzt.

Elektronesch Uwendungen: Saphir Wafere kënnen an der Fabrikatioun vun Dioden, LEDs, Laserdioden an aner elektronesch Geräter benotzt ginn. Saphir huet exzellent thermesch Konduktivitéit an elektresch Isolatiounseigenschaften, gëeegent fir High-Power elektronesch Geräter.

Optoelektronesch Uwendungen: Saphir Wafere kënne benotzt ginn fir Bildsensoren, Photodetektoren an aner optoelektronesch Geräter ze fabrizéieren. Saphir niddereg Verloscht an héich Äntwert Eegeschafte maachen et ideal fir optoelektronesch Uwendungen.

Standard Wafer Parameter Spezifikatioune:

Duerchmiesser: 2 Zoll (ongeféier 50,8 mm)

Dicke: Gemeinsam Dicken enthalen 0,5 mm, 1,0 mm an 2,0 mm. Aner Dicke kënnen op Ufro personaliséiert ginn.

Surface Rauh: Allgemeng Ra < 0,5 nm.

Duebelsäiteg poléieren: Flaachheet ass typesch < 10 µm.

Duebelsäiteg poléiert Eenkristall Saphirwafers: Wafere poléiert op béide Säiten a mat engem méi héije Grad vu Parallelismus fir Uwendungen déi méi héich Ufuerderunge erfuerderen.

Maacht weg datt spezifesch Produktparameter variéiere kënnen ofhängeg vun den Ufuerderunge vum Hiersteller an der Applikatioun.

Detailléiert Diagramm

Saphir Wafer Substrat Epi-ready DSP SSP (1)
Saphir Wafer Substrat Epi-ready DSP SSP (1)
Saphir Wafer Substrat Epi-ready DSP SSP (2)

  • virdrun:
  • Nächste:

  • Schreift Äre Message hei a schéckt en un eis