Personnaliséiert geformt Saphir optesch Fënsteren Saphirkomponenten mat Präzisiounspoléierung

Kuerz Beschreiwung:

Op Mooss geformt Saphir-optesch Fënstere representéieren den Héichpunkt vun der Präzisiounsoptik, andeems se Czochralski-gewuessent monokristallint Al₂O₃ mat kontrolléierter kristallographescher Orientéierung (typesch C-Achs oder A-Achs) benotzen, fir d'Leeschtung fir spezifesch Uwendungen ze optimiséieren. Eise propriétaire Kristallwuesstumsprozess ergëtt Material mat aussergewéinlecher Homogenitéit (<5×10⁻⁶ Breechungsindexvariatioun) a minimale Inklusiounen (<0,01 ppm), wat eng konsequent optesch Leeschtung iwwer all Produktiounschargen garantéiert. D'Fënstere behalen eng bemierkenswäert Ëmweltstabilitéit, mat enger CTE vu 5,3×10⁻⁶/K parallel zur C-Achs, wat eng nahtlos Integratioun a Multimaterialbaugruppen erméiglecht, déi thermesche Zyklen ausgesat sinn. Eis fortgeschratt Poliertechniken erreechen eng Uewerflächenrauheet ënner 0,5 nm RMS, wat entscheedend ass fir héichleistungs Laserapplikatiounen, wou Uewerflächendefekter Schied ausléise kënnen.

Als vertikal integréierte Produzent bitt XKH ëmfaassend Léisunge vun der Materialsynthese bis zur Schlussinspektioun:

Designënnerstëtzung: Eis Ingenieurséquipe bitt DFM (Design for Manufacturing) Analysen mat Zemax- a COMSOL-Simulatiounen un, fir d'Fënstergeometrie fir spezifesch optesch/mechanesch Ufuerderungen ze optimiséieren.

Prototyping-Servicer: Schnell Ëmdréizäit (<72 Stonnen) fir d'Konzeptvalidatioun mat Hëllef vun eise internen CNC-Schleif- a MRF-Polierméiglechkeeten.

Beschichtungsoptiounen: Benotzerdefinéiert AR-Beschichtungen mat enger Haltbarkeet, déi d'MIL-C-675C-Normen iwwerschreift, dorënner:

Breitband (400-1100nm) <0,5% Reflexioun

VUV-optimiséiert (193nm) mat enger Transmissioun vun >92%

Leitfäeg ITO-Beschichtungen (100-1000Ω/sq) fir EMI-Schirmung

Qualitéitssécherung: Komplett Metrologie-Suite mat:

4D PhaseCam Laserinterferometer fir λ/20 Flaachheetsverifizéierung

FTIR-Spektroskopie fir d'Spektraltransmissiounskartographie

Automatiséiert Inspektiounssystemer fir 100% Screening vu Uewerflächendefekter

Schéckt eis eng E-Mail

Fonctiounen

Technesch Parameteren

Saphirfenster
Dimensioun	8-400mm
Dimensiounstoleranz	+0/-0,05mm
Uewerflächenqualitéit (Kratzen a Gruewen)	40/20
Uewerflächengenauegkeet	λ/10per@633nm
Kloer Blend	＞85%, > 90%
Parallelismus-Toleranz	±2''-±3''
Schrägkant	0,1-0,3 mm
Beschichtung	AR/AF/op Ufro vum Client

Schlësselmerkmale

1. Materiell Iwwerleeënheet

· Verbessert thermesch Eegeschaften: Weist eng thermesch Leetfäegkeet vun 35 W/m·K (bei 100°C) op, mat engem niddregen thermeschen Ausdehnungskoeffizient (5,3×10⁻⁶/K), deen optesch Verzerrung bei schnelle Temperaturzyklen verhënnert. D'Material behält seng strukturell Integritéit och bei thermesche Schockiwwergäng vun 1000°C op Raumtemperatur a Sekonnen.

· Chemesch Stabilitéit: Weist null Degradatioun un, wann et iwwer länger Zäit konzentréierte Säuren (ouni HF) an Alkalien (pH 1-14) ausgesat ass, wouduerch et ideal fir chemesch Veraarbechtungsausrüstung ass.

· Optesch Verfeinerung: Duerch fortgeschratt C-Achs Kristallwuesstum erreecht eng Transmissioun vun >85% am siichtbare Spektrum (400-700nm) mat Streuverloschter ënner 0,1%/cm.
· Optional hyperhemisphäresch Poléierung reduzéiert Uewerflächenreflexiounen op <0,2% pro Uewerfläch bei 1064 nm.

2. Präzisiounsingenieurfäegkeeten

· Nanoskala-Uewerflächenkontroll: Mat Hëllef vu magnetorheologescher Veraarbechtung (MRF) erreecht een eng Uewerflächenrauheet vu <0,3 nm Ra, wat entscheedend ass fir héichleeschtungs Laserapplikatiounen, wou den LIDT méi wéi 10 J/cm² bei 1064 nm an 10 ns Impulser ass.

· Fabrikatioun mat komplexer Geometrie: Integréiert 5-Achs-Ultraschallbearbechtung fir d'Schafung vu mikrofluidesche Kanäl (Toleranz vu 50 μm Breet) an diffraktiv optesch Elementer (DOE) mat enger Feature-Opléisung vu <100 nm.

· Metrologieintegratioun: Kombinéiert Wäissliichtinterferometrie an Atomkraaftmikroskopie (AFM) fir 3D-Uewerflächencharakteriséierung, wat eng Formgenauegkeet <100nm PV iwwer 200mm Substrater garantéiert.

Primär Uwendungen

1. Verbesserung vun de Verteidegungssystemer

· Hypersonesch Gefierkuppelen: Entworf fir aerothermesch Belaaschtungen vu Mach 5+ standzehalen, wärend d'MWIR-Transmissioun fir d'Sichkäpp bäibehale gëtt. Spezial Nanokomposit-Kantdichtunge verhënneren Delaminatioun ënner Schwéngungsbelaaschtungen vu 15G.

· Quantesensorplattformen: Versioune mat ultra-niddreger Duebelbrechung (<5nm/cm) erméiglechen eng präzis Magnetometrie an U-Boot-Detektiounssystemer.

2. Innovatioun am industrielle Prozess

· Semiconductor Extreme UV Lithographie: Poliert Fënstere vun der Qualitéit AA mat enger Uewerflächenrauheet vun <0,01 nm miniméieren EUV (13,5 nm) Streuverloschter a Stepper-Systemer.

· Iwwerwaachung vun Atomreaktoren: Neutronentransparent Varianten (Al₂O₃ isotopesch gereinegt) suergen fir Echtzäit-visuell Iwwerwaachung a Gen IV Reaktorkären.

3. Integratioun vun neien Technologien

· Weltraumbaséiert optesch Kommunikatioun: Stralungsgehärtete Versiounen (no 1Mrad Gamma-Beliichtung) behalen >80% Transmissioun fir LEO-Satellittelaser-Vernetzungen.

· Biophotonik-Grenzflächen: Bio-inert Uewerflächenbehandlungen erméiglechen implantierbar Raman-Spektroskopie-Fënsteren fir kontinuéierlech Glukosiwwerwaachung.

4. Fortgeschratt Energiesystemer

· Fusiounsreaktordiagnostik: Méischichteg leetfäeg Beschichtungen (ITO-AlN) bidden souwuel Plasmasicht wéi och EMI-Abschirmung an Tokamak-Installatiounen.

· Waasserstoffinfrastruktur: Kryogen Versiounen (bis 20K getest) verhënneren d'Versprëchung vu Waasserstoff a Vuefenster fir d'Späichere vu flëssegem H₂.

XKH Servicer & Liwwerkapazitéiten

1. Benotzerdefinéiert Produktiounsservicer

· Zeechnungsbaséiert Personnalisatioun: Ënnerstëtzt net-Standarddesignen (Dimensiounen vun 1 mm bis 300 mm), séier Liwwerung bannent 20 Deeg an éischt Prototyping bannent 4 Wochen.

· Beschichtungsléisungen: Antireflexioun (AR), Antifouling (AF) a wellenlängtespezifesch Beschichtungen (UV/IR) fir Reflexiounsverloschter ze minimiséieren.

· Präzisiounspoléieren & Tester: Poléieren op atomarer Ebene erreecht eng Uewerflächenrauheet vun ≤0,5 nm, mat Interferometrie déi d'Konformitéit mat der λ/10-Flaachheet garantéiert.

2. Liwwerketten & Techneschen Support

· Vertikal Integratioun: Voll Prozesskontroll vum Kristallwuesstum (Czochralski-Method) bis zum Schnëtt, Polieren a Beschichtungen, wat d'Materialreinheet (Lücken-/Grenzfräi) a Chargekonsistenz garantéiert.

· Zesummenaarbecht an der Industrie: Zertifizéiert vun Aerospace-Entreprisen; zesumme mam CAS fir d'Entwécklung vu Supergitter-Heterostrukture fir den Haushaltssubstitut.

3. Produktportfolio & Logistik

· Standardinventar: Waferformater vu 6 Zoll bis 12 Zoll; Eenheetspräis vun 43 bis 82 (ofhängeg vun der Gréisst/Beschichtung), mat Liwwerung um selwechten Dag.

· Technesch Berodung fir applikatiounsspezifesch Konstruktiounen (z.B. Gestuftene Fënstere fir Vakuumkammeren, thermeschockbeständeg Strukturen).