Personnaliséiert Saphirglasfenster Saphir Optesch Deeler

Kuerz Beschreiwung:

Saphir-optesch Fënstere representéieren e Spëtzepunkt vun optescher Innovatioun, andeems se onvergläichlech Materialeegeschafte mat modernen Fabrikatiounstechnike kombinéieren. Dës Fënstere si aus syntheteschem Saphir (α-Al₂O₃) konstruéiert a iwwerschreiden konventionell optesch Komponenten andeems se aussergewéinlech Haltbarkeet, spektral Villfältegkeet an Upassungsfäegkeet un haart Konditiounen ubidden. Hir eenzegaarteg Charakteristike maachen se onentbierlech an Industrien, déi Zouverlässegkeet ënner extremen Temperaturen, mechaneschem Stress a korrosiven Ëmfeld erfuerderen.

Schéckt eis eng E-Mail

Fonctiounen

Technesch Spezifikatioun

Numm	optescht Glas
Material	Saphir, Quarz
Duerchmiesser Toleranz	+/-0,03 mm
Déckt Toleranz	+/-0,01 mm
Cler Aperture	iwwer 90%
Flaachheet	^/4 @632.8nm
Uewerflächenqualitéit	80/50~10/5 krazen a gruewen
Transmissioun	iwwer 92%
Fassung	0,1-0,3 mm x 45 Grad
Brennwäit Toleranz	+/-2%
Toleranz vun der hënneschter Brennwäit	+/-2%
Beschichtung	verfügbar
Benotzung	optescht System, fotografescht System, Beliichtungssystem, elektronesch Apparater, z.B. Laser, Kamera, Monitor, Projektor, Lupp, Teleskop, Polarisator, elektronescht Instrument, LED etc.

Material Exzellenz: D'Grondlag vun der Leeschtung

Déi intrinsesch Eegeschafte vu syntheteschem Saphir ënnerscheede sech als dat bevorzugt Material fir héichperformant Optik. Mat enger Mohs-Härkeet vun 9 - nëmmen no Diamant - sinn dës Fënstere géint Abrasioun, Kratzer a Verschleiung resistent, och an abrasiven industriellen Ëmfeld wéi Laserbearbeitung oder roboterbaséierter Visiounssystemer. Hir thermesch Stabilitéit erstreckt sech iwwer en erstaunleche Beräich vun -200 °C bis 2053 °C, wat Uwendungen an thermesche Schutzsystemer fir d'Loftfaart an an industriellen Héichtemperaturreaktoren erméiglecht. Chemesch Inertitéit garantéiert weider Kompatibilitéit mat aggressiven Léisungsmëttelen, Säuren an Alkalien, déi fir d'Pharmazeutik- a Hallefleederproduktioun entscheedend sinn.
Déi optesch Transparenz vu Saphir reecht vun 200 nm (UV) bis 6 μm (Mëttel-IR) a erreecht iwwer dëst Spektrum >85% Transmittanz. Dëse breede Beräich ënnerstëtzt multispektral Bildgebung a Fernerkundung, Quantekommunikatiounssystemer a fortgeschrattene LiDAR-Sensore fir autonom Gefierer. Am Géigesaz zu Quarz oder Polymeren miniméiert d'Null-Duebelbrechung vu Saphir d'optesch Verzerrung, wat Präzisioun an der Interferometrie an der Gravitatiounswellendetektioun garantéiert.

Fortgeschratt Design & funktionell Integratioun

Modern Saphirfënstere sinn net nëmmen statesch Komponenten - si sinn fir dynamesch Leeschtung entwéckelt. Asphäresch a fräiformeg Geometrien eliminéieren sphäresch Aberratiounen, wat d'Opléisung a staarken Lasersystemer an hyperspektralen Kameraen verbessert. Zum Beispill optimiséieren elliptesch Aperturen d'Liichtsammlungseffizienz bei Satellittebiller, während konisch Designen eng nahtlos Integratioun a begrenzte Raim wéi medizinesch Endoskope erméiglechen.

Funktionell Beschichtunge verbesseren hir Fäegkeeten:

· Antireflexbeschichtungen (AR): Méischichteg dielektresch Beschichtunge reduzéieren d'Reflexivitéit op <0,3%, wouduerch den Duerchgank a 400G optesche Moduler an UV-Lithographiesystemer erhéicht gëtt.
· Bandpassfilter: Benotzerdefinéiert Filter (z.B. 940nm IR) erméiglechen eng wellenlängtselektiv Transmissioun fir LiDAR a Quanteschlësselverdeelung.
· Diamantähnleche Kuelestoff (DLC): Ultrahaart DLC-Beschichtunge verbesseren d'Kratzbeständegkeet fir Raumfaartkuppelen, déi Mikrometeoroid-Asätz ausgesat sinn.

Uwendungen a kriteschen Industrien

1. Loft- a Raumfaart & Verdeedegung

· Satellittebiller: Iwwerliewe vun thermesche Kreesleef vun -196°C bis +120°C an Äerdobservatiounssatellitten, erfassen héichopléisend Biller fir d'Klimaiwwerwaachung.
· Hypersonesch Systemer: Wärmeschocken vun 2000°C beim Wiederentrée an d'Atmosphär standhalen a Rakéiteleitsystemer schützen.

2. Medizinesch Technologie

· Autoklavensécher Endoskoper: Widderstandsfäeg géint Korrosioun duerch Sterilisatiounsprozesser, wat d'Benotzung vun nei benotzbaren Instrumenter fir gastrointestinal Diagnostik erméiglecht.
· Infraroutthermographie: Detektioun vu Submillimeter-Hëtztsignaturen bei Inspektioune vun elektreschen Ausrüstung mat FLIR-kompatiblen Optiken.

3. Industriell Automatiséierung

· LiDAR Sensoren: Verbessert d'Detektiounsreechwäit op 200m+ bei schlechtem Wieder (Reen, Niwwel) fir autonom Gefiernavigatioun.
· Héichtemperatursensoren: Iwwerwaachung vun Uewen, déi iwwer 1500 °C a metallurgesche Prozesser sinn, andeems se d'Widderstandsfäegkeet vu Saphir géint Wärmeschock ausnotzen.

4. Quanteninnovatiounen

· Eenzelphotonen-Detektoren: Erméiglechen eng geräischer Photonenzielung fir sécher Quantekommunikatiounsnetzwierker.
· Kryogenesch Systemer: Optesch Kloerheet bei 4K Temperaturen a Quantecomputerplattforme behalen.

Personnaliséierung & skalierbar Léisungen

De "Material-Process-Service"-Paradigma vun XKH garantéiert individuell Léisungen:

1. Komplex Geometrien: Akzeptéiert CAD-Modeller mat ±0,001 mm Toleranzen fir net-Standardformen (z.B. spiralfërmeg Hëtzeofléisungsfënstere fir Fusiounsreaktoren).

2. Méischichtbeschichtungen: Ionenstrahlsputtering erreecht eng Transmittanz vun 98% bei 940 nm, wat entscheedend fir Gesiichtserkennungssystemer ass.

3. Masseproduktioun: Automatiséiert Fabrikatioun ergëtt iwwer 500.000 Eenheeten/Mount mat enger Konsistenz vun 99,5%, ënnerstëtzt séier Prototyping (7 Deeg Ëmdréizäit) a Groussbestellunge.

Conclusioun: D'optesch Grenz vun der muerder Welt gestalten

Saphir-optesch Fënstere si méi wéi just Komponenten – si erméiglechen technologesch Duerchbréch. Vun hypersonesche Verteidegungssystemer bis zu Quantecomputer vun der nächster Generatioun, hir oniwwertraff Materialeegeschaften an Designflexibilitéit ermächtegen Industrien, extrem Erausfuerderungen ze meeschteren. Mat enger schneller globaler Verbreedung an engem Engagement fir Innovatioun definéieren dës Fënsteren d'Standarden an der optescher Ingenieurskonscht nei a fuerderen de Fortschrëtt an der Nohaltegkeet, der Miniaturiséierung an der missiounskritescher Zouverlässegkeet. Schafft mat eis zesummen, fir d'Kraaft vum Saphir ze notzen an nei Grenzen an der Photonik ze schafen.