8 Zoll 200 mm Saphir Wafer Carrier Subsrate 1SP 2SP 0.5mm 0.75mm

Kuerz Beschreiwung:

Den 8 Zoll Saphir Substrat Wafer ass e qualitativ héichwäertegt, haltbar Kristallmaterial dat a verschiddenen Uwendungen benotzt gëtt. Et ass bekannt fir seng exzellent thermesch a chemesch Stabilitéit, souwéi seng héich optesch Transparenz.

Schéckt E-Mail un eis

Produit Detailer

Produit Tags

Fabrikatioun Method

De Fabrikatiounsprozess vum 8-Zoll Saphirsubstrat beinhalt e puer Schrëtt. Als éischt gëtt héich Puritéit Aluminiumoxidpulver bei enger héijer Temperatur geschmollt fir e geschmollte Staat ze bilden. Dann gëtt e Somkristall an d'Schmelz taucht, sou datt d'Saphir wuessen wéi d'Seedis lues zréckgezunn sinn. No genuch Wuesstum gëtt de Saphirkristall suergfälteg an dënn Wafer geschnidden, déi dann poléiert ginn fir eng glat a flawless Uewerfläch z'erreechen.

D'Applikatioune vum 8-Zoll Saphir-Substrat: Den 8-Zoll Saphir-Substrat gëtt wäit an der Hallefleitindustrie benotzt, speziell an der Produktioun vun elektroneschen Apparater an optoelektronesche Komponenten. Et déngt als entscheedend Fundament fir den epitaxiale Wuesstum vun Halbleiteren, wat d'Bildung vun héich performant integréierte Circuiten, liichtemittéierend Dioden (LEDs) a Laserdioden erméiglecht. De Saphir Substrat fënnt och Uwendungen an der Fabrikatioun vun opteschen Fënsteren, Auer Gesiichter, a Schutzdeckele fir Smartphones a Pëllen.

D'Produkt Spezifikatioune vun 8-Zoll Saphir Substrat

- Gréisst: Den 8 Zoll Saphir Substrat huet en Duerchmiesser vun 200mm, bitt eng méi grouss Uewerfläch fir d'Oflagerung vun Epitaxialschichten.

- Surface Qualitéit: D'Uewerfläch vum Substrat ass suergfälteg poléiert fir eng héich optesch Qualitéit z'erreechen, mat enger Uewerflächrauheet vu manner wéi 0,5 nm RMS.

- Dicke: D'Standarddicke vum Substrat ass 0,5 mm. Wéi och ëmmer, personaliséiert Dickeoptioune sinn op Ufro verfügbar.

- Verpakung: D'Saphirsubstrater sinn individuell verpackt fir Schutz beim Transport a Lagerung ze garantéieren. Si ginn typesch a spezielle Schacht oder Këschte plazéiert, mat passenden Polstermaterialien fir Schued ze vermeiden.

- Edge Orientation: De Substrat kënnt mat enger spezifizéierter Randorientéierung, wat entscheedend ass fir eng präzis Ausrichtung wärend Halbleiter Fabrikatiounsprozesser.

Als Conclusioun ass den 8-Zoll Saphir Substrat e versatile an zouverlässeg Material, wäit an der Hallefleitindustrie benotzt wéinst sengen aussergewéinlechen thermeschen, chemeschen an opteschen Eegeschaften. Mat senger exzellenter Uewerflächqualitéit a präzisen Spezifikatioune déngt et als entscheedend Bestanddeel an der Produktioun vun héich performant elektroneschen an optoelektroneschen Apparater.