6 Zoll Siliziumkarbid 4H-SiC Hallefisolatiounsbarren, Dummy-Qualitéit
Eegeschaften
1. Physikalesch a strukturell Eegeschaften
●Materialtyp: Siliziumkarbid (SiC)
●Polytyp: 4H-SiC, hexagonal Kristallstruktur
●Duerchmiesser: 6 Zoll (150 mm)
● Déckt: Konfiguréierbar (5-15 mm typesch fir Dummy-Gréisst)
● Kristallorientéierung:
oPrimär: [0001] (C-Ebene)
oNiewen Optiounen: Off-axis 4° fir optiméiert epitaktesch Wuesstem
●Primär flaach Orientéierung: (10-10) ± 5°
● Sekundär flaach Orientéierung: 90° géint den Auerzäresënn vum primäre flaache Punkt ± 5°
2. Elektresch Eegeschaften
●Widerstandsfäegkeet:
oHalbisoléierend (>106^66 Ω·cm), ideal fir d'parasitär Kapazitéit ze minimiséieren.
●Dopingtyp:
oOnbewosst dotiéiert, wat zu engem héijen elektresche Widderstand a Stabilitéit ënner enger Rei vu Betribsbedingungen féiert.
3. Thermesch Eegeschaften
● Wärmeleitfäegkeet: 3,5-4,9 W/cm·K, wat eng effektiv Hëtztofleedung an Héichleistungssystemer erméiglecht.
● Thermeschen Ausdehnungskoeffizient: 4,2 × 10−64,2 \times 10^{-6} 4,2 × 10−6/K, wat d'Dimensiounsstabilitéit bei der Veraarbechtung bei héijen Temperaturen garantéiert.
4. Optesch Eegeschaften
●Bandlück: Breet Bandlück vun 3,26 eV, wat de Betrib ënner héije Spannungen an Temperaturen erméiglecht.
●Transparenz: Héich Transparenz fir UV- a siichtbar Wellelängten, nëtzlech fir optoelektronesch Tester.
5. Mechanesch Eegeschaften
●Härte: Mohs-Skala 9, no Diamanten déi zweetgréisst, wat Haltbarkeet während der Veraarbechtung garantéiert.
● Defektdicht:
oKontrolléiert op minimal Makrodefekter, wat eng ausräichend Qualitéit fir Dummy-Grade-Applikatioune garantéiert.
●Flaachheet: Eenheetlechkeet mat Ofwäichungen
Parameter | Detailer | Eenheet |
Grad | Dummy-Klass | |
Duerchmiesser | 150,0 ± 0,5 | mm |
Wafer Orientéierung | Op der Achs: <0001> ± 0,5° | Grad |
Elektresch Widderstand | > 1E5 | Ω·cm |
Primär flaach Orientéierung | {10-10} ± 5,0° | Grad |
Primär flaach Längt | Kerb | |
Rëss (Inspektioun mat héichintensivem Liicht) | < 3 mm radial | mm |
Sechseckplacken (Inspektioun duerch héichintensivt Liicht) | Kumulativ Fläch ≤ 5% | % |
Polytypberäicher (Inspektioun vu Liicht mat héijer Intensitéit) | Kumulativ Fläch ≤ 10% | % |
Mikropäifdicht | < 50 | cm−2^-2−2 |
Kantenabschnitzen | 3 erlaabt, all ≤ 3 mm | mm |
Notiz | Schneidwaferdicke < 1 mm, > 70% (ouni zwou Enden) erfëllen déi uewe genannten Ufuerderungen |
Uwendungen
1. Prototyping a Fuerschung
De 6-Zoll 4H-SiC-Barr am Dummy-Stil ass en ideal Material fir Prototyping a Fuerschung, wat et Hiersteller a Laboratoiren erméiglecht:
● Testprozessparameter an der chemescher Dampfdepositioun (CVD) oder der physescher Dampfdepositioun (PVD).
● Ätz-, Polier- an Wafer-Schneidtechniken entwéckelen a verfeineren.
● Entdeckt nei Apparatdesignen, ier Dir op Material a Produktiounsqualitéit wiesselt.
2. Kalibrierung an Tester vum Apparat
Déi halbisoléierend Eegeschafte maachen dëse Barren onschätzbar fir:
● Evaluatioun a Kalibratioun vun den elektreschen Eegeschafte vun Héichleistungs- an Héichfrequenzgeräter.
●Simulatioun vun Operatiounsbedingunge fir MOSFETs, IGBTs oder Dioden an Testëmfeld.
● Als käschtegënschtegen Ersatz fir héichreine Substrater an der fréier Entwécklungsphase déngen.
3. Leeschtungselektronik
Déi héich thermesch Konduktivitéit an déi breet Bandlücke-Charakteristike vu 4H-SiC erméiglechen en effizienten Operatioun an der Leeschtungselektronik, dorënner:
●Héichspannungs-Stroumversuergungen.
● Inverter fir Elektroautoen (EV).
● Erneierbar Energiesystemer, wéi Solarinverter a Wandturbinnen.
4. Radiofrequenz (RF) Uwendungen
Déi niddreg dielektresch Verloschter an déi héich Elektronemobilitéit vu 4H-SiC maachen et gëeegent fir:
●HF-Verstärker an Transistoren an der Kommunikatiounsinfrastruktur.
●Héichfrequent-Radarsystemer fir Loft- a Raumfaart- a Verteidegungsanwendungen.
● Kabellos Netzwierkkomponenten fir nei 5G Technologien.
5. Stralungsbeständeg Apparater
Wéinst senger inherenter Resistenz géint duerch Stralung induzéiert Defekter ass halbisoléierend 4H-SiC ideal fir:
●Ausrüstung fir Weltraumfuerschung, dorënner Satellittenelektronik a Stroumversuergungssystemer.
● Stralungsgeschärft Elektronik fir d'Iwwerwaachung an d'Kontroll vun der Nuklearenergie.
●Verteidegungsapplikatiounen, déi Robustheet an extremen Ëmfeld erfuerderen.
6. Optoelektronik
Déi optesch Transparenz an déi breet Bandlück vu 4H-SiC erméiglechen seng Notzung an:
●UV-Fotodetektoren an héichleistungs LEDs.
●Test vun optesche Beschichtungen an Uewerflächenbehandlungen.
● Prototypéierung vun optesche Komponenten fir fortgeschratt Sensoren.
Virdeeler vu Material vun Dummy-Qualitéit
Käschteeffizienz:
D'Dummy-Qualitéit ass eng méi bezuelbar Alternativ zu Fuerschungs- oder Produktiounsqualitéitsmaterialien, wouduerch se ideal fir Routinetester a Prozessverfeinerung ass.
Personaliséierung:
Konfiguréierbar Dimensiounen an Kristallorientéierunge garantéieren Kompatibilitéit mat enger breeder Palette vun Uwendungen.
Skalierbarkeet:
Den Duerchmiesser vu 6 Zoll entsprécht den Industriestandarden, wat eng nahtlos Skalierung op Produktiounsprozesser erméiglecht.
Robustheet:
Héich mechanesch Stäerkt a thermesch Stabilitéit maachen de Barren haltbar a verlässlech ënner verschiddenen experimentellen Konditiounen.
Vielfältegkeet:
Gëeegent fir vill Industrien, vun Energiesystemer bis Kommunikatioun an Optoelektronik.
Conclusioun
De 6-Zoll Siliziumkarbid (4H-SiC) Hallefisolatiounsbarren, Dummy-Qualitéit, bitt eng zouverlässeg a villfälteg Plattform fir Fuerschung, Prototyping an Tester a modernen Technologiesektoren. Seng aussergewéinlech thermesch, elektresch a mechanesch Eegeschaften, kombinéiert mat Bezuelbarkeet a Personaliséierungsméiglechkeeten, maachen et zu engem onverzichtbare Material souwuel fir d'akademesch Welt wéi och fir d'Industrie. Vun der Leeschtungselektronik bis hin zu HF-Systemer a strahlungsgehäerte Geräter ënnerstëtzt dëse Barren Innovatioun an all Phas vun der Entwécklung.
Fir méi detailléiert Spezifikatiounen oder fir en Devis unzefroen, kontaktéiert eis w.e.g. direkt. Eis technesch Equipe ass bereet Iech mat personaliséierte Léisungen ze hëllefen, déi op Är Ufuerderungen zougeschnidden sinn.
Detailéiert Diagramm



