2 Zoll 50,8 mm Silicon Carbide SiC Wafers Dotéiert Si N-Typ Produktiounsfuerschung an Dummy Grad
Parametric Critèrë fir 2-Zoll 4H-N undoped SiC wafers enthalen
Substratmaterial: 4H Siliciumcarbid (4H-SiC)
Kristallstruktur: tetrahexahedral (4H)
Doping: Undoped (4H-N)
Gréisst: 2 Zoll
Konduktivitéitstyp: N-Typ (n-dotéiert)
Konduktivitéit: Semiconductor
Maartausbléck: 4H-N net-dotéiert SiC Wafere hu vill Virdeeler, sou wéi héich thermesch Konduktivitéit, geréng Leitungsverloscht, exzellent Héichtemperaturresistenz, an héich mechanesch Stabilitéit, an hunn domat e breet Maartausbléck a Kraaftelektronik a RF Uwendungen. Mat der Entwécklung vun erneierbaren Energien, elektresche Gefierer a Kommunikatiounen gëtt et eng ëmmer méi Nofro fir Apparater mat héijer Effizienz, héijer Temperaturoperatioun an héijer Kraaft Toleranz, déi eng méi breet Maartméiglechkeet fir 4H-N net-dotéiert SiC Wafere bitt.
Benotzt: 2-Zoll 4H-N net-dotéiert SiC Wafere kënne benotzt ginn fir eng Vielfalt vu Kraaftelektronik a RF-Geräter ze fabrizéieren, inklusiv awer net limitéiert op:
1--4H-SiC MOSFETs: Metalloxid Halbleiter Feldeffekttransistoren fir héich Kraaft / Héichtemperatur Uwendungen. Dës Apparater hunn niddereg Leitung a Schaltverloschter fir méi héich Effizienz an Zouverlässegkeet ze bidden.
2--4H-SiC JFETs: Junction FETs fir RF Kraaftverstärker a Schaltapplikatiounen. Dës Apparater bidden héich Frequenz Leeschtung an héich thermesch Stabilitéit.
3--4H-SiC Schottky Diodes: Dioden fir héich Kraaft, héich Temperatur, Héichfrequenz Uwendungen. Dës Geräter bidden héich Effizienz mat gerénger Leedung a Schaltverloschter.
4--4H-SiC Optoelektronesch Geräter: Apparater benotzt a Beräicher wéi Héichkraaft Laserdioden, UV Detektoren an optoelektronesch integréiert Kreesleef. Dës Apparater hunn héich Muecht a Frequenz Charakteristiken.
Zesummegefaasst, 2-Zoll 4H-N net-dotéiert SiC wafers hunn d'Potenzial fir eng breet Palette vun Uwendungen, virun allem an Muecht Elektronik an RF. Hir super Leeschtung an Héichtemperaturstabilitéit maachen se e staarke Konkurrent fir traditionell Siliziummaterialien fir High-Performance, High-Temperature an High-Power Uwendungen ze ersetzen.